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1. माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स क्षेत्र
सभी अनुप्रयोग उद्योगों में, सेमीकंडक्टर उद्योग में लक्ष्य स्पटरिंग फिल्मों के लिए सबसे कठोर गुणवत्ता की आवश्यकताएँ हैं। अब 12- इंच (300 मिमी) सिलिकॉन वेफ़र्स का निर्माण किया गया है, लेकिन इंटरकनेक्ट लाइनों की चौड़ाई कम हो रही है। सिलिकॉन वेफ़र निर्माताओं की लक्ष्यों के लिए आवश्यकताएँ बड़े आकार, उच्च शुद्धता, कम पृथक्करण और महीन दाने हैं, जिसके लिए निर्मित लक्ष्यों में बेहतर माइक्रोस्ट्रक्चर होना आवश्यक है।

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2. प्रदर्शन के लिए
फ्लैट-पैनल डिस्प्ले (एफपीडी) ने हाल के वर्षों में कैथोड रे ट्यूब (सीआरटी) द्वारा प्रभुत्व वाले कंप्यूटर मॉनीटर और टीवी बाजारों को बहुत प्रभावित किया है, और यह आईटीओ लक्ष्यों के लिए प्रौद्योगिकी और बाजार की मांग को भी बढ़ावा देगा। वर्तमान में दो प्रकार के आईटीओ लक्ष्य हैं। एक नैनो-स्टेट इंडियम ऑक्साइड और टिन ऑक्साइड पाउडर को मिश्रित और सिंटर किया जाता है, और दूसरा इंडियम-टिन मिश्र धातु लक्ष्यों का उपयोग करता है।

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